芯碁微装荣获双面曝光技术发明专利，提升卷对卷曝光机生产效率

近日，国内领先的微电子装备制造商合肥芯碁微电子装备股份有限公司（股票代码：688630）获得一项重要发明专利授权。专利名称为"卷对卷曝光机和用于卷对卷曝光机的控制方法"（专利号：CN202210808510.6），授权日为2025年7月25日。此次专利授权标志着公司在半导体设备领域的技术创新取得新突破。 这项创新技术主要应用于卷对卷(R2R)曝光设备，该设备由放料装置、收料装置和核心曝光装置组成。其中，曝光装置采用独特的双面对位曝光设计： 1. 两个曝光组件沿垂直方向对称布置，可对悬空料带进行同步双面曝光 2. 多组精密运动平台交替夹持料带，确保匀速稳定传送 3. 智能对位系统实时检测料带位置，自动进行纠偏校准 与传统单面曝光设备相比，这项新技术具有显著优势： - 实现连续不间断的双面同步曝光 - 生产效率提升30%以上 - 双面对位精度达到微米级 - 适用于柔性电路板、OLED显示面板等高精度制造领域 根据公司2024年报显示，芯碁微装全年研发投入达9769.71万元，同比增长3.34%。截至目前，公司已累计获得专利369项，其中2024年新授权专利24项。作为国内半导体设备领域的领军企业，芯碁微装已对外投资4家企业，参与招投标项目144次，拥有33项商标和53项软件著作权。 （数据来源：天眼查APP） 注：本文基于公开信息整理，不构成任何投资建议。