股市必读：国林科技（300786）9月18日董秘有回复

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截至2025年9月18日收盘，国林科技(300786)报收于16.22元，下跌0.8%，换手率18.0%，成交量26.4万手，成交额4.34亿元。

投资者： 多重曝光，意味着需要多次沉积、光刻、清洗，对晶圆沉积、光刻胶、(硬)掩膜板以及清洗的需求都会大幅增加。例如：自对准四重曝光的前提是完成四层沉积。请问公司产品能否满足多重曝光(N+2、N+3)工艺对应的多次沉积和清洗的技术需求？ 　　董秘： 尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。 　　投资者： 芯片光刻制造过程中的多重曝光需要清洗次数增加，对清洗洁净度有更高要求，请问公司的半导体臭氧设备能满足多重曝光工艺的适配需求吗？ 　　董秘： 尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。 　　

• 来自交易信息汇总：9月18日主力资金净流出2956.77万元，散户资金净流入4180.76万元。

资金流向

9月18日主力资金净流出2956.77万元；游资资金净流出1224.0万元；散户资金净流入4180.76万元。

为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成(网信算备310104345710301240019号)，不构成投资建议。

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截至2025年9月18日收盘，国林科技(300786)报收于16.22元，下跌0.8%，换手率18.0%，成交量26.4万手，成交额4.34亿元。

投资者： 多重曝光，意味着需要多次沉积、光刻、清洗，对晶圆沉积、光刻胶、(硬)掩膜板以及清洗的需求都会大幅增加。例如：自对准四重曝光的前提是完成四层沉积。请问公司产品能否满足多重曝光(N+2、N+3)工艺对应的多次沉积和清洗的技术需求？ 　　董秘： 尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。 　　投资者： 芯片光刻制造过程中的多重曝光需要清洗次数增加，对清洗洁净度有更高要求，请问公司的半导体臭氧设备能满足多重曝光工艺的适配需求吗？ 　　董秘： 尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。 　　

• 来自交易信息汇总：9月18日主力资金净流出2956.77万元，散户资金净流入4180.76万元。

资金流向

9月18日主力资金净流出2956.77万元；游资资金净流出1224.0万元；散户资金净流入4180.76万元。

为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成(网信算备310104345710301240019号)，不构成投资建议。

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