京东方Ａ获得发明专利授权：“一种显示基板及其制造方法、显示装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ(000725)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种显示基板及其制造方法、显示装置”，专利申请号为CN202111002703.4，授权日为2025年8月19日。

专利摘要：本公开提供一种显示基板及其制造方法、显示装置，所述显示基板包括衬底基板及由靠近所述衬底基板一侧向远离所述衬底基板一侧依次设置的源漏金属层、平坦层和电极层，所述源漏金属层至少包括被所述平坦层覆盖的源漏金属图案和未被所述平坦层覆盖的第二源漏金属图案，其中所述电极层包括电极图案及遮挡图案，所述电极图案位于所述平坦层之上；所述遮挡图案直接覆盖于至少部分所述第二源漏金属图案之上，并沿着所述第二源漏金属图案的图案边沿设置。本公开实施例的显示基板及其制造方法、显示装置，能够解决源漏金属图案在电极层刻蚀时出现侧面缺陷而导致不良的技术问题。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2448个，较去年同期增加了0.53%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了131.23亿元，同比增15.94%。

数据来源：天眼查APP

为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成(网信算备310104345710301240019号)，不构成投资建议。

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ(000725)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种显示基板及其制造方法、显示装置”，专利申请号为CN202111002703.4，授权日为2025年8月19日。

专利摘要：本公开提供一种显示基板及其制造方法、显示装置，所述显示基板包括衬底基板及由靠近所述衬底基板一侧向远离所述衬底基板一侧依次设置的源漏金属层、平坦层和电极层，所述源漏金属层至少包括被所述平坦层覆盖的源漏金属图案和未被所述平坦层覆盖的第二源漏金属图案，其中所述电极层包括电极图案及遮挡图案，所述电极图案位于所述平坦层之上；所述遮挡图案直接覆盖于至少部分所述第二源漏金属图案之上，并沿着所述第二源漏金属图案的图案边沿设置。本公开实施例的显示基板及其制造方法、显示装置，能够解决源漏金属图案在电极层刻蚀时出现侧面缺陷而导致不良的技术问题。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2448个，较去年同期增加了0.53%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了131.23亿元，同比增15.94%。

数据来源：天眼查APP

为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成(网信算备310104345710301240019号)，不构成投资建议。