京东方Ａ获得发明专利授权：“一种掩膜版、曝光设备和曝光方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ(000725)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种掩膜版、曝光设备和曝光方法”，专利申请号为CN202211203997.1，授权日为2025年8月15日。

专利摘要：本申请实施例提供了一种掩膜版、曝光设备和曝光方法。该掩膜版包括：有多个子掩膜图形组的掩膜子版和有多个透光区的第二掩膜子版。第二掩膜子版设置在掩膜子版的一侧，且能够相对掩膜子版移动。移动对位结构与第二掩膜子版连接，用于根据接收到的对位信号，控制第二掩膜子版移动，以使得在不同的曝光过程中透光区分别对应不同的子掩膜图形组。本申请实施例可以将多种掩膜版图形集成在一张掩膜版中，减少掩膜版使用数量，降低生产成本，同时减少生产时掩膜版的移动风险及其造成的产品工艺不良。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2412个，较去年同期减少了0.94%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了131.23亿元，同比增15.94%。

数据来源：天眼查APP

为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成(网信算备310104345710301240019号)，不构成投资建议。

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ(000725)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种掩膜版、曝光设备和曝光方法”，专利申请号为CN202211203997.1，授权日为2025年8月15日。

专利摘要：本申请实施例提供了一种掩膜版、曝光设备和曝光方法。该掩膜版包括：有多个子掩膜图形组的掩膜子版和有多个透光区的第二掩膜子版。第二掩膜子版设置在掩膜子版的一侧，且能够相对掩膜子版移动。移动对位结构与第二掩膜子版连接，用于根据接收到的对位信号，控制第二掩膜子版移动，以使得在不同的曝光过程中透光区分别对应不同的子掩膜图形组。本申请实施例可以将多种掩膜版图形集成在一张掩膜版中，减少掩膜版使用数量，降低生产成本，同时减少生产时掩膜版的移动风险及其造成的产品工艺不良。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2412个，较去年同期减少了0.94%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了131.23亿元，同比增15.94%。

数据来源：天眼查APP

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